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| 磁碟生产项目职业危害评价报告书 |
| 文件大小：347.136KB |
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| 更新时间：2008-2-19 10:44:18 |
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| 所属分类：微电子行业 |
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| 预览概述 |
1 项目基本资料
项目名称：XXX有限公司磁碟生产项目。
规模：年产量4.3亿片硬盘磁碟。项目用地面积31619 m2，建筑占地面积22353 m2，为大跨度双层密闭厂房，层高8m。
投资情况：项目总投资3000万美元，为外资企业。
2 生产工艺
该项目生产工艺流程图为：
编码（batching）→纹理（texture）→清洗（wash）→真空镀膜（sputter）→润滑（lube）→研磨（tape polish）→测试（test）→外观检查（avis）→标签（label & bag）
其中清洗工序主要使用异丙醇化学物，在金属密闭系统内进行，设备在密封状态下工作；纹理/清洗工序使用过氧化氢、柠檬酸、氨水、碳酸钾、ID10（主要成分为碳酸钾、碳酸氢钾和乙二胺四乙酸四钠盐）和ID13（主要成分为磷酸氢二钠、碳酸氢钾和磷酸二氢钠）等化学物，生产过程均在密封状态下进行。
镀膜工序采用自动化和机械化操作，以含镍、铬、钴和钛的合金，采用等离子真空镀膜工艺，在多重密封和真空状态下进行镀膜。靶部件处于密闭腔中，自由活动的微粒依赖设备的电场和磁场镀膜。
润滑工序使用保护层材料（HFE-7100DL），成份为甲基乙醚，均为密闭化作业。以上工艺均采用自动化和机械化操作。
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